日米欧韓が進めている特許制度の共通化構想に中国が加わることになった。米ハワイで11日2ちゃんねる:http://news18.2ch.net/test/read.cgi/news4plus/1178949582/
(日本時間12日)に開く関係国の特許当局首脳の会合で合意する。まず2009年に特許出願の
書式を統一。その後は特許審査結果の相互利用も進め、最終的には「世界特許」の実現を
目指す。構想の初期段階から中国も取り込むことで、中国国内の制度整備を促す狙いもある。
今回初めて開く日米欧中韓の5カ国・地域特許庁会合には、日本からは中嶋誠特許庁長官
が出席する。会合では、日米欧韓がすでに合意している(1)特許出願書式の統一(2)特許審査
結果の相互利用(3)審査官の相互研修(4)統計情報の交換――などの協力に中国が参加する
ことを決める。同時に日米欧韓が、中国国内の特許制度の近代化に協力することも合意する。
http://bizplus.nikkei.co.jp/genre/top/index.cfm?i=2007051109576b1
模造品被害にあった国内企業の7割が、中国製模造品によるものだと回答…特許庁調査 [05/07]
http://news21.2ch.net/test/read.cgi/news4plus/1178541688/
Author:tokua
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